Создание низкоразмерной среды в арсениде галлия для устройств микро- и наноэлектроники
3.1 Структурные свойства
Содержание
- ВВЕДЕНИЕ
- 1 Арсенид галлия как перспективный материал микро- и наноэлектроники
- 1.1 Свойства и применение арсенида галлия
- 1.2 Пористая матрица арсенида галлия и её структурные свойства
- 2 Формирование низкоразмерной среды в арсениде галлия
- 2.1 Исследование электрофизических параметров исходного монокристаллического арсенида галлия
- 2.1.1 Определение кристаллографической ориентации подложек
- 2.1.2 Определение типа проводимости подложек методом термо-ЭДС
- 2.1.3 Определение концентрации основных носителей заряда
- 2.2 Формирование пористой матрицы в арсениде галлия
- 2.2.1 Электрохимия полупроводников
- 2.2.2 Технологические условия формирования пористого арсенида галлия
- 3.1 Структурные свойства
- 3.1.1 Оптическая микроскопия
- 3.1.2 Электронная микроскопия
- 1.3 Оптические свойства
- 3.3 Оптические свойства
- ЗАКЛЮЧЕНИЕ
Похожие материалы
- 1.3.1. Актуальность использования низкоразмерного кремния в производстве изделий микро- и наноэлектроники
- 11.3.7. Диффузия в слоях арсенида галлия
- 15.3. Биполярные транзисторы на подложках арсенида галлия
- ОПТИЧЕСКАЯ СПЕКТРОСКОПИЯ СТРУКТУР НА ОСНОВЕ АРСЕНИДА ГАЛЛИЯ
- От микро- к наноэлектронике
- Области применения и получения арсенида галлия.
- 11.3.3 Производство фотоэлементов из арсенида галлия
- 11.3.3 Производство фотоэлементов из арсенида галлия