2.3 Электронный транспорт в субмикронном транзисторе с барьером Шоттки
Особенность процессов, протекающих в приборах на основе GaAs при уменьшении длины можно понять, рассматривая короткие структуры , где - области, являются областями с повышенным содержанием донорной примеси (см-3) с размером 0,2 мкм. - область (канал диода с длиной ) легирована до концентрации см-3 с размером 0,4 мкм при подаче постоянного напряжения.
На рис. 2.3 показано распределение величины дрейфовой скорости в диоде общей длиной 0,4 мкм из которого видно, что в диоде вблизи катодного контакта существует область, где величина скорости заметно выше чем в остальной части диода.
Размер этой области около 0,2 мкм. Это и есть область так называемого пространственного overshoot. Следовательно если уменьшать длину канала до величин сравнимых с 0,2 мкм влияние неоднородного распределения скорости будет увеличиваться.
Рассматривались полевые транзисторы с барьером Шоттки с общей длиной 1 мкм и 0.6 мкм. Канал транзистора имел легирование см-3. Длина истока и стока для транзистора с длиной 1 мкм была взята 0,25 мкм, для транзистора с длиной 0,6 мкм она составила 0,15 мкм. Размеры затвора меньше 0,125 мкм и 0,075 мкм соответственно для обоих размеров.
Результаты расчета распределения потенциала в диоде показаны на рис. 2.3 и 2.4
"right">48Размещено на http://www.allbest.ru/
Рис. 2.3 Распределение величины дрейфовой скорости в диоде
"right">48Размещено на http://www.allbest.ru/
Рис. 2.4 Распределение величины потенциала по расчетной области транзистора
Рис. 2.5 Расположение эквипотенциальных линий внутри транзистора
Как видно, из приведенных зависимостей вблизи отрицательно заряженного затвора формируется область с отрицательным потенциалом, вытесняющим электроны из канала.
Действие потенциала затвора на распределение электронов в канале и эффективную толщину канала иллюстрировано на рис 2.6 для трех значений напряжения на затворе: -0,2 В, -0, 5 В и -0, 8 В.
Видно уменьшении эффективного размера канала приблизительно в 2 раза при изменении напряжения от -0,2 В, -0, 5 В и -0, 8 В
а) б) в)
Рис. 2.6 Распределение электронов в транзисторе при трех напряжениях на затворе
Результирующие выходные и переходные характеристики транзисторов с длиной 1 мкм и 0,6 мкм показаны на рис. 2.7-2.10
1 - -0,2 В; 1 - 0,1 В; 1 - 0,4 В;
Рис. 2.7 Выходные характеристики транзистора с длиной 1 мкм.
1- 0,1 В ; 2- 0,2 В ; 3- 0,5 В ; 4- 0,8 В ;
5- 1,0 В ; 6- 1,2 В ;
Рис. 2.8 Переходные характеристики транзистора с длиной 1 мкм
1 - -0,2 В; 1 - 0,1 В; 1 - 0,4 В;
Рис. 2.9 Выходные характеристики транзистора с длиной 0,6 мкм
1- 0,2 В ; 2- 0,45 В ; 3- 1,0 В ; 4- 1,2 В.
Рис. 2.10 Переходные характеристики транзистора с длиной 0,6 мкм
По полученным характеристикам видно, что в целом они соответствуют характеристикам полевых транзисторов с барьером Шоттки. Отличием есть отсутствие выраженного участка насыщения.
Это объясняется тем, что процессы переноса носителей заряда в этих приборах связаны с дрейфом носителей и вид выходной характеристики соответствует зависимости от напряжения средней скорости носителей в канале. Уменьшение длины приводит к снижению интенсивности рассеяния и соответственно с невозможностью рассеивания на фононах. Движение носителей приобретает баллистический характер, что отчетливо демонстрируют характеристики прибора с 0,6 мкм. Начальные участки практически линейные - рассеяния нет, пролет бесстолкновительный.
- ВВЕДЕНИЕ
- 1. ЭЛЕКТРОННЫЙ ТРАНСПОРТ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ
- 1.1 Всплеск во времени дрейфовой скорости насыщения при воздействии электрического поля
- 1.2 Всплеск дрейфовой скорости в коротких структурах
- 1.3 Баллистический транспорт в полупроводниках и субмикронных приборах
- 1.4 Методы математического моделирования кинетических процессов
- 1.5 Полевой транзистор с барьером Шоттки
- 2. ИССЛЕДОВАНИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ СУБМИКРОННЫХ СТРУКТУР
- 2.1 Общая процедура моделирования
- 2.1.1 Модель зоны проводимости и механизмы рассеяния
- 2.1.2 Задание начальных условий
- 2.1.3 Движение частицы во внешнем поле и определение времени свободного пробега
- 2.1.4 Законы сохранения и правила отбора при рассеянии
- 2.1.5 Определение состояния частицы после рассеяния
- 2.1.6 Определение вероятности рассеяния и конечного состояния
- 2.2 Вычисление распределения потенциала и электрического поля
- 2.3 Электронный транспорт в субмикронном транзисторе с барьером Шоттки
- ВЫВОДЫ
- Тема 11: Полевые транзисторы с затвором Шоттки
- Классификация полевых транзисторов
- 5.6. Полевой транзистор с затвором Шоттки
- Транзисторы с барьером Шоттки
- Полевые транзисторы с затвором Шоттки.
- 1 Полевые транзисторы с затвором Шоттки
- 5.1.3. Полевой транзистор с барьером Шоттки на основе арсенида галлия
- 5.1.3. Полевой транзистор с барьером Шоттки на основе арсенида галлия
- 3П915-2 арсенидогаллиевые полевые транзисторы с барьером Шоттки и n-каналом для работы в усилителях мощности, генераторах, в диапазоне частот до 8 гГц
- Классификация полевых транзисторов