1. АНАЛИЗ СХЕМЫ И РАЗРАБОТКА ТЕХНОЛОГИИ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИНТЕГРАЛЬНОГО УСИЛИТЕЛЯ
Полупроводниковая интегральная схема изготовлена по изопланарной технологии, суть которой заключается в создании изолированных областей для отдельных элементов.
Планарная технология позволяет одновременно получать большое количество элементов в течение единого технологического процесса и характеризуется тем, что все внешние границы p-n- переходов выходят на одну плоскость, т.е. все выводы элементов находятся на одной стороне полупроводниковой пластины.
Для данной схемы интегрального усилителя требуются только две изолированные области: область для транзистора Т1 и область, в которой расположены транзисторы Т2, Т3 и все резистор, так как резисторы изолированы от транзисторов Т2 и Т3 p-n переходом.
Входной транзистор Т1 должен находиться в собственной изолированной области. Коллекторы транзисторов Т2 и Т3 соединены друг с другом и с положительным полюсом источника питания, поэтому они могут находиться в одной изолированной области. Все резисторы могут находиться в одной изолированной области, которая соединена с наибольшим положительным потенциалом. Так как поверхность кристалла защищена слоем двуокиси кремния, тонкопленочные алюминиевые соединения могут проходить по любому из диффузионных резисторов, не замыкаясь на них.
Согласно проведенному анализу разработан техпроцесс приведенный ниже.
- ВВЕДЕНИЕ
- 1. АНАЛИЗ СХЕМЫ И РАЗРАБОТКА ТЕХНОЛОГИИ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИНТЕГРАЛЬНОГО УСИЛИТЕЛЯ
- 1.1 Выбор материалов для изготовления интегрального усилителя
- 1.2 Технологический маршрут
- 2. ОСНОВНЫЕ РАСЧЕТЫ
- 2.1 Расчет режимов диффузии
- 2.1.1 Расчет режима базовой диффузии
- 2.1.2 Расчет режимов диффузии эмиттерной области
- 2.1.3 Расчет профиля распределения примеси в эмиттерной области
- 2.1.4 Построение профиля распределения примеси в базе и эмиттере до окисления
- 2.2 Расчеты режимов окисления
- 2.2.1 Расчет режимов окисления при получении диэлектрических карманов
- 2.2.2 Расчет режимов окисления при получении диэлектрической пленки
- 2.2.3 Расчет режимов окисления для создания защитной маски
- 2.2.4 Расчет профилей распределения примеси после окисления
- 3. Расчет точности изготовления резисторов
- ЗАКЛЮЧЕНИЕ
- 1.1.1. Классификация и основные параметры интегральных схем
- V. Интегральные микроэлектронные схемы Общие сведения
- Роль тонкопленочной технологии в производстве интегральных схем
- 23.1. Технология изготовления интегральных микросхем
- Усилители в интегральном исполнении
- 5.Технология изготовления интегральных схем
- 12. Интегральные схемы. Классификация. Условные обозначения. Область применения.
- 1. В чем состоят основные базовые операции технологии изготовления интегральных схем.
- 5.12. Интегральные усилители переменного напряжения
- Технологии проектирования и изготовления специализированных имс