Технология изготовления схемы интегрального усилителя

курсовая работа

2.2.2 Расчет режимов окисления при получении диэлектрической пленки

Слой окисла должен быть равен 1 мкм, а также быть плотным и надежным.

Окисление проводится при температуре по комбинированной технологии. Для этого в начале процесса в течение 15 мин. наращивается тонкий окисел в сухом кислороде:

мкм

Затем кремний окисляют во влажном кислороде:

, где мкм, тогда ч

Общее время двух операций составит: ч

После проводят подсушивание в сухом кислороде в течение 1ч., при котором происходит уплотнение диэлектрика.

Делись добром ;)