ЗАКЛЮЧЕНИЕ
1) Методами скола и селективного травления определена кристаллографическая ориентация фрагментов подложек арсенида галлия; методом термо-ЭДС определён их тип проводимости; четырёхзондовым методом определено удельное поверхностное сопротивление и рассчитана концентрация носителей, составившая величину порядка .
2) Проведено анодирование подложек арсенида галлия n- и p-типов проводимости с ориентацией (100); при помощи сканирующего электронного микроскопа установлено, что формируется низкоразмерная среда с размерами элементов до 500 нм.
3) Измерено удельное сопротивление полученных слоёв, которое составило величину порядка . Такое высокое сопротивление объясняется наличием пор в полученном материале.
4) Исследование фотоэлектрических свойств образцов n- и p-типа показывает, что максимум фотоактивности образцов соответствует длине волны красного света 650-680 нм, - 1,7 эВ. В образце арсенида галлия n-типа проводимости величина фотоответа выше, чем в образце p-типа проводимости примерно на 15-20 %, что совпадает с литературными данными.
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ
1. Ковтонюк Н.Ф. Измерение параметров полупроводниковых материалов [Текст]: учеб. / Н.Ф. Ковтонюк, Ю.А. Концевой. - М.: Металлургия, 1970. - 272 с.
2. Батавин В.В. Измерение параметров полупроводниковых материалов и структур [Текст]: учеб. / В.В. Батавин, Ю.А. Концевой, Ю.В. Федорович. М.: Радио и связь, 1985. - 264 с.
3. Мямлин В.А. Электрохимия полупроводников [Текст]: учеб. / В.А Мямлин, Ю.В. Плесков. М.: Наука, 1965. - 376 с.
4. Гуревич Ю.Я. Фотоэлектрохимия полупроводников [Текст]: учеб. / Ю.Я. Гуревич, Ю.В. Плесков. М.: Наука, 1983. - 281 с.
5. Шелованова, Г.Н. Материаловедение и материалы электронных средств [Текст]: метод. указания по лаб. раб. №1-10 / Г.Н. Шелованова. - Красноярск: ИПЦ КГТУ, 2006. - 64 с.
6. http://www.krugosvet.ru/ Онлайн энциклопедия Кругосвет. Электронный микроскоп.
7. Николаев, К.П. Особенности получения и области применения пористого кремния в электронной технике [Текст] / Николаев К.П., Немировский Л.Н // Обзоры по электронной технике - 1989. - №9. - С. 59.
8. Properties of Porous Silicon / Ed. L. Canham. DERA: Malvern, UK, 1997. 405 p
9. Зимин, С.П. Пористый кремний - материал с новыми свойствами [Текст] / С.П. Зимин. // Соросовский образовательный журнал - 2004. - №1. - С. 48-53.
10. Образцов, А.Н. Поглощеине света и фотолюминесценция пористого кремния [Текст] / А.Н. Образцов, В.А. Караванский, Х. Окуси, Х. Ватанабе. // Физика и техника полупроводников - 1998. - №8. - С. 79-83
11. Зимин, С.П. Классификация электрических свойств пористого кремния [Текст] / С.П. Зимин. // Физика и техника полупроводников - 2000. - №3. - С. 31-34.
12. Белогорохов, А.И. Оптические свойства пористого наноразмерного GaAs [Текст] / А.И. Белогорохов, С.А. Гаврилов, И.А. Белогорохов, А.А. Тихомиров. // Физика и техника полупроводников. - 2005. - №39. - С. 25-29.
13. Аверкиев, Н.С. Оптические и электрические свойства пористого арсенида галлия [Текст] / Н.С. Аверкиев, Л.П. Казакова, Э.А. Лебедев, Ю.В. Рудь, А.Н. Смирнов, Н.Н. Смирнова. // Физика и техника полупроводников - 2000. - №34. - С. 58-65.
14. Горячев, Д.Н. Фотолюминесценция пористого арсенида галлия [Текст] / Д.Н. Горячев, О.М. Сресели. // Физика и техника полупроводников - 1997. - №31. - С. 47-52.
15. Бузынин, Ю.И. Монокристаллические слои GaAs, AlGaAs и InGaAs, полученные методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений на подложках пористого арсенида галлия [Текст] / Ю.И. Бузынин, С.А. Гусев, В.М. Данильцев, М.Н. Дроздов, Ю.Н. Дроздов, А.В. Мурель, О.И. Хрыкин, В.И. Шашкин. // Письма в ЖТФ - 2000. - №7. - С. 112-118.
16. Орлов, Л.К. Формирование структуры квантовых нитей InGaAs в матрице арсенида галлия [Текст] / Л.К. Орлов, Н.Л. Ивина. // Физика твёрдого тела - 2004. - №5. - С. 86-90.
- ВВЕДЕНИЕ
- 1 Арсенид галлия как перспективный материал микро- и наноэлектроники
- 1.1 Свойства и применение арсенида галлия
- 1.2 Пористая матрица арсенида галлия и её структурные свойства
- 2 Формирование низкоразмерной среды в арсениде галлия
- 2.1 Исследование электрофизических параметров исходного монокристаллического арсенида галлия
- 2.1.1 Определение кристаллографической ориентации подложек
- 2.1.2 Определение типа проводимости подложек методом термо-ЭДС
- 2.1.3 Определение концентрации основных носителей заряда
- 2.2 Формирование пористой матрицы в арсениде галлия
- 2.2.1 Электрохимия полупроводников
- 2.2.2 Технологические условия формирования пористого арсенида галлия
- 3.1 Структурные свойства
- 3.1.1 Оптическая микроскопия
- 3.1.2 Электронная микроскопия
- 1.3 Оптические свойства
- 3.3 Оптические свойства
- ЗАКЛЮЧЕНИЕ